Direkte Wasserphotolyse (172 nm/185 nm)

Was versteht man unter direkter Wasserphotolyse?

Direkte Wasserphotolyse nutzt Vakuum-UV-Strahlung (VUV) bei 172 nm und 185 nm, um das Wassermolekül selbst zu spalten und so reaktive Spezies zu erzeugen – vollständig ohne Chemikalienzugabe. Peschl Ultraviolet setzt dieses Wirkprinzip ein, wo Reagenzien-freie Aufbereitung zwingend erforderlich ist, etwa bei ultrareinem Wasser oder kleinsten, hochsensiblen Prozessströmen.

  • 1. Mechanismus

    Direkte Wasserphotolyse des Wassermoleküls

    Wasser absorbiert VUV-Strahlung bei 172 nm und 185 nm direkt – im Gegensatz zu UV-C bei 254 nm, das von reinem Wasser kaum absorbiert wird. Die Photonenenergie reicht aus, um die O–H-Bindung homolytisch zu spalten:

    H₂O + hν (172/185 nm) → OH• + H•
    H• + O₂ → HO₂• (Folgereaktion)

    Bei 185 nm wird zusätzlich gelöster Luftsauerstoff zu Ozon umgesetzt, das seinerseits weiter zu OH•-Radikalen reagieren kann – ein in-situ-AOP-Effekt ohne externe Dosierung:

    O₂ + hν (185 nm) → 2 O(³P) → O₃
    O₃ + hν / H₂O → OH•

    Bei 172 nm (Excimer-Strahler, Xe₂*) ist die Eindringtiefe in Wasser sehr gering (im µm-Bereich), wodurch die Reaktion nahezu ausschließlich oberflächennah stattfindet – relevant für dünne Filmschichten oder Mikrofluidik-Anwendungen. 185 nm dringt tiefer ein und eignet sich daher besser für Volumenströme.

  • 2. Einsatzbereich

    Das Verfahren eignet sich für Anwendungen, in denen jede Form von Chemikalienzugabe unerwünscht oder unzulässig ist, sowie für sehr geringe Volumenströme mit hohem Reinheitsanspruch.
    Typische Substrate und Anwendungen:

    • Ultrareinwasser (UPW) in Halbleiterfertigung und Pharma
    • TOC-Reduktion (Total Organic Carbon) in Reinstwassersystemen
    • Oberflächenaktivierung dünner Wasserfilme (172 nm)
    • Mikrobiologische Inaktivierung in Kombination mit oxidativem Effekt

    Vergleich: VUV-Photolyse vs. UV/H₂O₂

    Kriterium
    VUV-Photolyse (172/185 nm)
    UV/H₂O₂ (254 nm)
    Chemikalieneinsatz
    Keiner
    H₂O₂-Dosierung erforderlich
    Eindringtiefe in Wasser
    Sehr gering (µm–mm)
    Hoch (cm-Bereich)
    OH•-Quelle
    Wasser selbst + in-situ O₃
    Externes H₂O₂
    Geeignet für
    Dünnschicht, kleine Volumenströme, UPW
    Größere Volumenströme, höhere Frachten
    Typische Einsatzfelder
    Halbleiter, Pharma-Reinstwasser
    Industrie, Kommunalabwasser